Optitherm lll发射率自动测量仪

美国原装进口！

简要描述：

在CVD、MBE和MOCVD反应过程中，Optitherm lll 发射率自动测量系统通过光纤镜头和*新的脉冲激光器可以*地测量单个或多个晶片的温度 。

Optitherm lll 可以监测着被测光洁材料的不断变化的发射率，从而使得红外测温设备可以达到±3℃的精度。该主动式测量技术不同于传统的被动式测量技术。

    Optitherm lll 通过主动式反射测量技术得到目标的发射率(E%)，从而得到目标的实际温度(Te)。当接收测量红外辐射时,在同一时间,位置,波段自动测量被测物光洁表面的反射,获得准确的实际温度。微处理器以极快的速度(1ms)将这些值传递给PC，PC快速计算并记录下目标的实际温度，从而实现即时的过程控制。

   Optitherm lll 可以应用在各种各样的应用中，如：生产制造、芯片加工或研究与开发等其他一系列与*温度测量方面的应用。

*技术：

Optitherm lll 使用了*技术,基于红外技术的激光来测量目标的发射率及真实温度。

一个低功率的砷化镓脉冲激光器发出脉冲激光，通过特定的光路(激光通道)发射到被测目标上的测量区域，激光反射信号和红外辐射信号通过另一个光路(辐射通道)返回。激光信号(AC)在目标信号(DC)之上。监控发出的激光能量并加上几何因素(包括测量距离)，Optitherm lll 可以得到被测目标的反射率及发射率。测量过程中，仅接收目标辐射出的以激光波段为中心的非常窄的带宽的波段，这使其可以在特殊应用中得到*高的精度。

Optitherm lll 内置了5种操作模式：远程控制模式，由PC通过命令操作和控制；自动模式，在一定时间内持续输出数据，时间可调；单一模式，仅适用其温度测量功能；间隔模式，在特定的时间定序内测量；离线模式，用于安装和校准功能。

● 红外辐射和发射率的自动测量

● 温度范围: 250°C- 1500°C

● 温度精度: ±3°C

● 6 个波段可选:

808、850、905、940、980和 1550nm

● 数据采样率*快可达 1 ms

● 数字接口： RS232

● 每秒钟向PC端输出70个读数

● 测量光斑*小可达0.25"，大小可调

实际应用：

 ● 半导体薄片温度测量

  ● 晶片的生产和研发

  ● 光洁表面的测量

  ● 反应过程的温度测量:

CVD 反应器

MBE 反应器

MOCVD 反应器